ভ্যাকুয়াম স্পুতারিং ডিপোজিওশন

ভ্যাকুয়াম স্পুতারিং ডিপোজিজন কি?

1. Sputtering বন্টন একটি পৃষ্ঠ থেকে বাষ্পীভবন কণা এর deposition হয়, যা বলা হয় "sputtering টার্গেট," শারীরিক sputtering প্রক্রিয়া দ্বারা।
2. শারীরিক sputtering একটি nonthermal vaporization প্রক্রিয়া যেখানে পৃষ্ঠ পরমাণু একটি অনলস বোমা কণা থেকে ভরবেগ স্থানান্তর দ্বারা শারীরিকভাবে নির্গত হয়, যা সাধারণত একটি গ্যাসীয় আয়ন একটি প্লাজমা থেকে ত্বরিত।
3. Sputter জমা একটি ভ্যাকুয়াম বা নিম্ন চাপ গ্যাস (<5 মি Torr) preformed হতে পারে যেখানে sputtered কণা টার্গেট এবং substrate বা একটি উচ্চ গ্যাস চাপ (5 - 30) মধ্যে স্থান মধ্যে গ্যাস ধাপ সংঘর্ষ সহ্য করতে পারে না মি Torr) sputtering লক্ষ্য থেকে sputtered বা প্রতিফলিত যেখানে অনলস কণা তারা স্তর স্তর পৌঁছানোর আগে গ্যাস ফেজ সংঘর্ষের দ্বারা "তাপযুক্ত" হয়।

Sputter Deposition এর উপকারিতা

1. উপাদান, alloys, এবং যৌগিক sputtered এবং জমা হতে পারে।

2. sputtering লক্ষ্য একটি স্থিতিশীল, দীর্ঘায়িত vaporization উৎস উপলব্ধ করা হয়।

3. কিছু কনফিগারেশন মধ্যে sputtering লক্ষ্য একটি বৃহৎ এলাকা বাষ্পীভবন উৎস যে কোন আকৃতি হতে পারে উপলব্ধ করা হয়।

4. কিছু কনফিগারেশন মধ্যে sputtering উৎস একটি সংজ্ঞায়িত আকৃতি হতে পারে, যেমন একটি শঙ্কু একটি লাইন বা সেগমেন্ট

5. কিছু কনফিগারেশন মধ্যে প্রতিক্রিয়াশীল জমা একটি সহজে প্রতিক্রিয়াশীল বায়বীয় প্রজাতি যে একটি সক্রিয় "প্লাজমা" (অর্থাৎ "প্রতিক্রিয়াশীল sputter জমা") ব্যবহার করে সম্পন্ন করা যায়।

Sputter Deposition এর অসুবিধাগুলি

1. স্পুটারিং হার নিম্ন তুলনায় তুলনা করা হয় যেগুলি তাপীয় বাষ্পীভবনে পাওয়া যেতে পারে।

2. চলচ্চিত্রের বৈশিষ্ট্যগুলি আমদানির উপাদানগুলির ভ্যাকুয়ামের কমপক্ষে "কৌকিকতার" উপর নির্ভর করে এবং নিম্ন চাপের উপর নির্ভর করে উচ্চ শক্তি নিরপেক্ষ থেকে বোমাবাজির পরিমাণ স্প্রেটারিং লক্ষ্যগুলি থেকে প্রতিফলিত হয়।

3. অনেক কনফিগারেশনের মধ্যে ডিপোয়শন ফ্লক্স ডিস্ট্রিবিউশনটি আনুনিফাইফর্ম হয়, যা ইউনিফর্ম বেধ এবং প্রোপার্টিগুলির চলচ্চিত্রগুলি অর্জন করার জন্য নিম্নস্তরের অবস্থানকে র্যান্ডমাইজ করতে সক্ষম হয়।

4. Sputtering লক্ষ্য প্রায়ই ব্যয়বহুল, এবং উপাদান ব্যবহার খারাপ হতে পারে।

5. কিছু কনফিগারেশন মধ্যে গ্যাসীয় সংক্রমণ সিস্টেম থেকে সহজে সরানো হয় না, এবং গ্যাসীয় দূষণগুলি প্লাজমা মধ্যে "সক্রিয়" হয়, এইভাবে ভ্যাকুয়াম বাষ্পীভবন তুলনায় ফিল্ম দূষণ আরও একটি সমস্যা তৈরি।

6. কিছু কনফিগারেশন মধ্যে রক্তরস বা sputtering লক্ষ্য থেকে বিকিরণ এবং বোমাবাজি স্তর স্তর নিন্দিত করতে পারেন।

7. Sputter Deposition ব্যাপকভাবে অর্ধপরিবাহী উপাদান, স্থাপত্য গ্লাস উপর coatings, কম্প্যাক্ট ডিস্ক নেভিগেশন প্রতিফলিত coatings, চুম্বকীয় চলচ্চিত্র, শুকনো ফিল্ম লুব্রিকেন্ট, এবং শোভাকর COATINGS উপর পাতলা ফিল্ম মেটালায়ন জমা ব্যবহৃত হয়।

Sputtering পদ্ধতি

ডিসি স্পুতারিং / এমএফএসপেন্টারিং

ব্যালেন্স Sputtering / Unbalaced Sputtering

Sputtering আবরণ সিস্টেম

নিম্ন-ই জন্য ব্যাচ কোটার এবং ইন-লাইন স্পুটারিং লেটিং সিস্টেম, কাচ, আইটি.ও. ফিল্মের কোটিং, পিইটি ফিল্ম ইত্যাদি।